01光刻机市场数据分析

光刻机毫无疑问是半导体器件制造中最重要的设备。其重要性不仅仅局限于工艺技术层面，还反映在其数量和产能的紧密关系上。

上图是ASML公布过的一张不同产片和工艺节点在特定产能下对应需要的各种光刻机数量。虽然实际上由于不同的晶圆厂的技术路线和水平不同会造成单位产能所需的设备数量会有一定差异，但在数量级层面上这个数据具有非常高的参考性。所以当我们了解到各类光刻机的具体出货数量，就可以大体推算出市场产能的变化情况。

目前全球能够提供前道制造用光刻机的供应商一共只有三家：ASML、NIKON和CANON。所以我们只要统计这三家季报里公布的数据，就可以具体了解全球前道光刻机的出货量(见下图)：

由图可见，2017年以后，全球光刻机的出货量(台数)明显持续增加，而且从数量上看，EUV和KrF的增量最为明显。

参考上面ASML的产能/设备数量对应关系图，我们可以明确感知到2017年以后先进工艺的迅猛发展态势。这和我们之前整理的其它数据反映的现象逻辑上是非常吻合的。尤其是通过EUV光刻机的出货数量，我们可以比较容易地推算7nm及以下先进制程的产能扩张情况，从而帮助我们了解和预测未来高端器件市场的走势。

上图是三家供应商分别的各类机台具体出货数量统计。由图可知：

ASML：目前已经基本垄断了ArF Dry、ArF i和EUV(100%)的市场。后续只要关注和研究其财报数据就可以帮助我们基本了解整个半导体市场的变化趋势。

NIKON：虽然理论上有除了EUV以外的所有类型光刻机产品，但近年来其ArF相关的高端产品出货量日趋萎缩，几乎没有市场份额。(其出货的ArF光刻机里有相当一部分还是翻新机)

CANON：目前产品完全集中于特定工艺领域的i-Line和KrF设备。出货量增长趋势不错，但没有任何高端工艺用设备。

基于以上因素，所以我们在研究半导体市场的时候，可以基本集中于ASML公司一家的数据：

由上图可见，ASML目前几乎一半以上的营收来自于EUV光刻机。其不仅仅在数量上不断增加，而且随着技术和性能(套刻精度、生产效率等)的提升，其机台的单价也迅速增长，帮助EUV成为公司最主要的利润来源。

不过不论如何，ASML的光刻机营收占全球所有半导体设备市场的比例没有明显长期变化趋势，整体维持在10~20%区间。而且这一比例在未来较长时间里也不会有其它变化。三家供应商主要机台型号及参数表