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光学玻璃专用清洗剂的类型及性能要求

时间:2026-07-17

来源:邦普化学(山东)有限公司

导语:光学玻璃在加工工艺流程中,需要清洗玻璃表面的切削液、研磨粉、油污、手指印等污染物,要求清洗干净无残留,不损伤基材表面。传统溶剂型清洗剂中,会有大量的溶剂挥发,存在易燃易爆、残留污染、易腐蚀光学玻璃等弊端。目前,光学玻璃水基清洗剂得到突飞猛进的发展,根据加工工序、污染物类型、玻璃材质差异,可选用不同类型清洗剂,同时需满足严苛的基材兼容、去污、环保等性能标准。

光学玻璃在加工工艺流程中,需要清洗玻璃表面的切削液、研磨粉、油污、手指印等污染物,要求清洗干净无残留,不损伤基材表面。传统溶剂型清洗剂中,会有大量的溶剂挥发,存在易燃易爆、残留污染、易腐蚀光学玻璃等弊端。目前光学玻璃水基清洗剂得到突飞猛进的发展,根据加工工序、污染物类型、玻璃材质差异,可选用不同类型清洗剂,同时需满足严苛的基材兼容、去污、环保等性能标准。

、光学玻璃常用清洗剂类型

1.水基清洗剂

对于研磨后、镀膜前后的清洗多用水基型光学玻璃清洗剂,以表面活性剂为核心成分,复配碱性助剂、螯合剂、缓蚀剂等功能性成分制备而成。但容易存在碱性过高,导致玻璃发生碱蚀现象、白点现象、发毛腐蚀现象等。

通过调整配方中缓蚀剂的配比与种类,可以有效控制体系的碱度,缓解光学玻璃尤其是易蚀玻璃的碱蚀问题,减少白点、发蒙等损伤的形成,适配不同材质光学玻璃的清洗需求。

2.半水基清洗剂

对于光学玻璃固定蜡及镜片粘接溢胶的清洗,常采用半水基清洗剂,一般由有机溶剂、表面活性剂和水复配而成,结合了溶剂型清洗剂去污能力强和水基清洗剂环保安全的优势,相比纯溶剂型清洗剂挥发性更低,闪点更高,安全性更强,成本也更低。不过半水基清洗剂使用后通常需要进行二次漂洗,才能彻底去除残留的清洗组分,避免在玻璃表面留下痕迹影响光学性能。

对清洗剂的性能要求

1)高效去污性能。清洗剂需具备优异的润湿、乳化、分散能力,可针对性溶解剥离松香、沥青胶质、切削油、抛光粉等顽固污染物,适配超声波清洗工艺,清洗后镜片无残渍、无雾斑、无水印。

2)优异的基材兼容性。光学玻璃品类繁多,理化性能差异较大,清洗剂需精准控制酸碱度,搭配专用缓蚀组分,杜绝强碱腐蚀,避免玻璃出现发白、失光、表面腐蚀等问题。

3)低泡易漂洗性能。清洗剂需适配超声、喷淋等自动化清洗工艺,同时具备易漂洗特性,经去离子水漂洗后无表面活性剂残留,杜绝二次污染与镀膜缺陷。

4)绿色安全环保性能。清洗剂需符合RoHS、REACH等环保标准,具备低VOC、低气味、可生物降解的特点。

 

 


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